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陶瓷膜生产工艺详解

来源: 时间:2019-06-10 00:06:00 次数:

陶瓷膜与纳米膜的区别在哪?常用德纳米隔热材料有哪些?陶瓷膜生产有哪几种工艺?小编为您汇总如下,欢迎大家留言区讨论!


陶瓷膜与纳米膜的区别在哪?常用德纳米隔热材料有哪些?陶瓷膜生产有哪几种工艺?小编为您汇总如下,欢迎大家留言区讨论!
1。 陶瓷膜与纳米膜的区别:
做成靶材通过磁控沉积到薄膜表面做成的隔热膜称为陶瓷膜;
将金属氧化物制成纳米微粒后,通过涂布方式做成隔热膜叫纳米膜;
磁控的陶瓷膜没经过纳米研磨的不能叫纳米膜,但纳米膜可以叫陶瓷膜。
2. 常用的几种纳米隔热材料:


也就是氧化铟锡,是应用比较早的隔热材料,也是半导体材料,多的应用是作为透明导电膜材料。但氧化铟的价格高昂限制了作为隔热材料的材料的普及。ITO对IR的阻隔区域在 780nm-1600nm之间。且1400nm左右对IR的阻隔比950nm左右的阻隔要好得多。波长在380nm-780nm的可见光区域透光率好。
ATO

也就是氧化锡锑,价格与氧化铟相比有相当大的优势,对IR的阻隔区域在 780nm-1300nm之间,在1100nm附近对IR的阻隔率好。
GTO

也就是氧化钨参杂一些其他金属成份的纳米粉体,一次粒径在40nm以下。对IR的阻隔区域因每家参杂的不同阻隔波段有很大差异。且成本相对较低。目前应用较多。
相变材料

也就是二氧化钒,是一种具有相变性质的金属氧化物,二氧化钒在低于68度时为单斜晶,呈半导体特性,即对红外线有较高的透过率;在高于68度时,变为正方晶,呈金属特性,对红外线变为高反射。是生产智能调光膜的主要材料。其相变温度为68℃,相变温度可通过参杂钨元素的量或改变结构调控。目前相变温度可以控制在35℃左右。如能控制在28℃以下,这款产品会真正迎来春天。
3. 陶瓷膜生产的几种工艺:
1.
磁控溅射法
将金属氧化物如氧化铟,氮化钛、氧化钛做成靶材,采用磁控溅射的方式沉积的薄膜表面,然后复合成陶瓷隔热膜。如伊士曼旗下的琥珀光学太阳膜就是这种工艺。这种生产方法膜清晰度高,产品稳定、隔热效果好,但设备投入大,生产效率低。成本相对也高。且不是任何隔热用金属氧化物都适用制作溅射靶材。
2.
纳米粉体分散涂布光固法
将金属氧化物制作成纳米微粒,制成分散液后混合到光固化耐磨树脂中。一般分散后二次粒径要控制在50nm以内。不然薄膜雾度会高,清晰度下降。然后涂布到薄膜表面,制成纳米隔热膜。这种工艺生产相对简单,隔热膜可以省去一道复合工艺,但问题是,光固涂层相对较薄,一般为2-5um,3um为最,而生产高隔热产品,纳米材料的净厚就超过2um。与光固化树脂的比例达到1:1,涂层厚度少也要5um。这样很容易造成光固不良、表层抗磨层脱落、抗磨层不达标等相关问题。早期的日本产隔热膜多为此种工艺。3M的晶锐70在早期也有使用这种工艺,后来发生过一些问题,如用酒精擦拭的时候,会擦掉固化层。后来3M就改进了工艺不采用这种方法了。
3.
纳米粉体分散涂布复合法
将金属氧化物制作成纳米微粒,制成分散液混合到复合胶水中。一般分散后二次粒径要控制在50nm以内。然后涂布到薄膜表面,再复合一层薄膜,这样纳米隔热层就复合在两层薄膜中间,然后在复合好的薄膜上一面涂上安装胶后再复合一层离型膜,再在另一面做上光固化涂层,就生成纳米膜成品。这种工艺早为韩国工厂使用。目前国内生产纳米隔热膜大部分使用此种工艺。此种工艺也是相对成熟的工艺。关键是纳米粒径大小与分散液分散程度,分散液与胶水的匹配度、与胶水混合的均匀度。如二次粒径过大,膜就会发雾。
此工艺大的问题是:正常的复合胶厚度为5-6um,而纳米材料的净厚就超过2-3um,这样将纳米材料与胶水的比例达到了1:1,这样胶水中有大量的纳米颗粒填充。复合胶水的性能会大幅下降。比如夹层易剥离、夹层起泡的现象时有发生。也有工厂为了规避这些现象,提高胶水添加比例。将复合胶层做到10um 左右。这样胶水的强度有了保障,但胶层过厚后,由于纳米材料的吸热特性。膜面温度比较高,太厚的胶水又易产生形变。日本产的太阳膜,因日本人更注意安全性,胶层一般都比较厚。所以日系太阳膜几年后胶水变形的几率非常高。典型的就是3M的晶锐70.也是日本生产的。经常在太阳下暴晒的,3年后就会有明显变形。这样就会影响驾驶安全,尤其是前档膜。

热性能下,纳米材料用量可以减少3分之一,比复合法清晰度更高。且缩减了纳米材料的成本。且所有涂层可以连线生产,大大提高了生产效率。对比纳米熔粒拉伸成膜法,因是涂布工艺,可适用小批量生产。方便个性化定制。

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